Structure having insulating coating film, method for producing the same, positive photosensitive resin composition and electronic device
WO2009150918
Art A1
17. Dezember 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009150918
- Aktenzeichen
- EP09762348
- Anmeldetag
- 13. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/16G03F7/004G03F7/022
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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