Particle cleaning of optical elements for microlithography

WO2009152885 Art A1 23. Dezember 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009152885
Aktenzeichen: EP09765465
Anmeldetag: 6. März 2009
Veröffentlichung: 23. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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