Template manufacturing method, template inspecting method and inspecting apparatus, nanoimprint apparatus, nanoimprint system, and device manufacturing method
WO2009153926
Art A1
23. Dezember 2009
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009153926
- Aktenzeichen
- EP09766374
- Anmeldetag
- 3. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027B29C33/38B29C59/02G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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