Charged particle beam apparatus, and method of controlling the same

WO2009153939 Art A1 23. Dezember 2009

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009153939
Aktenzeichen: EP09766387
Anmeldetag: 10. Juni 2009
Veröffentlichung: 23. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/073H01J1/304H01J37/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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