Method for manufacturing magnetoresistive device, sputter film-forming chamber, apparatus for manufacturing magnetoresistive device having sputter film-forming chamber, program and storage medium

WO2009154009 Art A1 23. Dezember 2009

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009154009
Aktenzeichen: EP09766457
Anmeldetag: 26. Januar 2009
Veröffentlichung: 23. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L43/12C23C14/34G01R33/09G11B5/39H01F10/32H01F41/32H01L21/8246H01L27/105H01L43/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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