Microstructure device including a metallization structure with self-aligned air gaps between closely spaced metal lines
WO2009154696
Art A2
23. Dezember 2009
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009154696
- Aktenzeichen
- EP09767009
- Anmeldetag
- 30. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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