Diodes, and methods of forming diodes
WO2009154886
Art A2
23. Dezember 2009
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009154886
- Aktenzeichen
- EP09767198
- Anmeldetag
- 1. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/861
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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