Method to create three-dimensional images of semiconductor structures using a focused ion beam device and a scanning electron microscope

WO2009154975 Art A1 23. Dezember 2009

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009154975
Aktenzeichen: EP09767287
Anmeldetag: 27. Mai 2009
Veröffentlichung: 23. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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