Method and apparatus for detecting the substrate temperature in a laser anneal system

WO2009155117 Art A2 23. Dezember 2009

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009155117
Aktenzeichen
EP09767428
Anmeldetag
29. Mai 2009
Veröffentlichung
23. Dezember 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/66H01L21/324
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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