Projection exposure system for microlithography and method of monitoring a lateral imaging stability

WO2009156111 Art A1 30. Dezember 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009156111
Aktenzeichen: EP09768960
Anmeldetag: 23. Juni 2009
Veröffentlichung: 30. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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