Method for designing photomask, equipment for designing photomask, program, recording medium, and method for manufacturing semiconductor device

WO2009157058 Art A1 30. Dezember 2009

Anmelder: Fujitsu Semiconductor Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009157058
Aktenzeichen: EP08765807
Anmeldetag: 24. Juni 2008
Veröffentlichung: 30. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Semiconductor Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu Semiconductor

Der Anmelder war die Halbleitersparte des japanischen Fujitsu-Konzerns, deren Geschäft später in das Unternehmen Socionext überging. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Datenspeicherung, Elektronik, Software und Nachrichtentechnik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2000 bis 2015.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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