Semiconductor inspecting apparatus
WO2009157182
Art A1
30. Dezember 2009
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009157182
- Aktenzeichen
- EP09769892
- Anmeldetag
- 23. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 30. Dezember 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/20H01L21/66H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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