Phase shift mask blank and phase shift mask

WO2009157506 Art A1 30. Dezember 2009

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009157506
Aktenzeichen: EP09770216
Anmeldetag: 25. Juni 2009
Veröffentlichung: 30. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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