Methods for automatically characterizing a plasma

WO2009158556 Art A2 30. Dezember 2009

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009158556
Aktenzeichen: EP09771087
Anmeldetag: 26. Juni 2009
Veröffentlichung: 30. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/36H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von