Photosensitive resin composition for mems and cured product thereof

WO2010001919 Art A1 7. Januar 2010

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010001919
Aktenzeichen: EP09773497
Anmeldetag: 1. Juli 2009
Veröffentlichung: 7. Januar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08G59/68G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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