Electron source device, ion source device and charged particle source device

WO2010001953 Art A1 7. Januar 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010001953
Aktenzeichen: EP09773531
Anmeldetag: 2. Juli 2009
Veröffentlichung: 7. Januar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/065G21K5/04H01J37/07H05H5/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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