Resist processing apparatus, resist applying/developing apparatus and resist processing method

WO2010004827 Art A1 14. Januar 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010004827
Aktenzeichen: EP09794274
Anmeldetag: 10. Juni 2009
Veröffentlichung: 14. Januar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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