Alignment system, lithographic system and method

WO2010006935 Art A2 21. Januar 2010

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010006935
Aktenzeichen: EP09780128
Anmeldetag: 3. Juli 2009
Veröffentlichung: 21. Januar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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