Film-forming apparatus and powder evaporation apparatus

WO2010007981 Art A1 21. Januar 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010007981
Aktenzeichen: EP09797906
Anmeldetag: 14. Juli 2009
Veröffentlichung: 21. Januar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C14/12C23C14/24C23C16/448C23C16/452H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von