System for aligning patterns on a substrate using stencil lithography

WO2010010224 Art A1 28. Januar 2010

Anmelder: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC), Universitat Autónoma De Barcelona (UAB), École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) 🇪🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010010224
Aktenzeichen: EP09800100
Anmeldetag: 24. Juli 2009
Veröffentlichung: 28. Januar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/68C23C14/04G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Universitat Autónoma De Barcelona (UAB)
École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)
Land: 🇪🇸 Spanien

🇪🇸 Consejo Superior de Investigaciones Científicas

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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