Optical member for photomask and method for manufacturing the optical member

WO2010010915 Art A1 28. Januar 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010010915
Aktenzeichen: EP09800429
Anmeldetag: 23. Juli 2009
Veröffentlichung: 28. Januar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14C03C3/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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