Circuit pattern examining apparatus and circuit pattern examining method

WO2010013612 Art A1 4. Februar 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010013612
Aktenzeichen: EP09802855
Anmeldetag: 13. Juli 2009
Veröffentlichung: 4. Februar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01N23/225G06T1/00H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

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