High throughput processing system for chemical treatment and thermal treatment and method of operating

WO2010014384 Art A1 4. Februar 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2010014384
Aktenzeichen
EP09803355
Anmeldetag
13. Juli 2009
Veröffentlichung
4. Februar 2010
Rechtsraum
WO
IPC
B44C1/22
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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