High throughput processing system for chemical treatment and thermal treatment and method of operating
WO2010014384
Art A1
4. Februar 2010
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010014384
- Aktenzeichen
- EP09803355
- Anmeldetag
- 13. Juli 2009
- Veröffentlichung
- 4. Februar 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B44C1/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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