Raw material recovery method and trapping mechanism for recovering raw material

WO2010016500 Art A1 11. Februar 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010016500
Aktenzeichen: EP09804983
Anmeldetag: 4. August 2009
Veröffentlichung: 11. Februar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44B01D53/14B01D53/18B01D53/72B01D53/77C23C16/16H01L21/205H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von