A substrate treating method, a substrate treating apparatus, an exposure method, and a device manufacturing method

WO2010016550 Art A1 11. Februar 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010016550
Aktenzeichen: EP09805033
Anmeldetag: 6. August 2009
Veröffentlichung: 11. Februar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00H01L21/027H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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