Metal recovery method, metal recovery apparatus, exhaust system, and film forming device using same

WO2010018768 Art A1 18. Februar 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010018768
Aktenzeichen: EP09806661
Anmeldetag: 4. August 2009
Veröffentlichung: 18. Februar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/64B01D53/62C23C16/44F27D17/00H01L21/28H01L21/285H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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