Patterning method to create a mask

WO2010019184 Art A1 18. Februar 2010

Anmelder: Eastman Kodak Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010019184
Aktenzeichen: EP09788964
Anmeldetag: 21. Juli 2009
Veröffentlichung: 18. Februar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Eastman Kodak Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Eastman Kodak

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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