Cluster jet processing method, semiconductor element, microelectromechanical element, and optical component
WO2010021265
Art A1
25. Februar 2010
Anmelder: Iwatani Corporation, Kyoto University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010021265
- Aktenzeichen
- EP09808201
- Anmeldetag
- 10. August 2009
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/302
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Iwatani Corporation
Kyoto University - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
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