Sintered complex oxide, method for producing sintered complex oxide, sputtering target, and method for producing thin film

WO2010021274 Art A1 25. Februar 2010

Anmelder: Tosoh Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010021274
Aktenzeichen: EP09808210
Anmeldetag: 11. August 2009
Veröffentlichung: 25. Februar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/453C23C14/08C23C14/34

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Tosoh Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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