Method for improving resist sensitivity

WO2010021359 Art A1 25. Februar 2010

Anmelder: JEOL LTD., Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010021359
Aktenzeichen: EP09808295
Anmeldetag: 20. August 2009
Veröffentlichung: 25. Februar 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/38G03F7/038G03F7/075G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: JEOL LTD.
Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

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🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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