Detection Of Contaminating Substances in an Euv Lithography Apparatus

WO2010022815 Art A1 4. März 2010

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010022815
Aktenzeichen: EP09776939
Anmeldetag: 3. Juli 2009
Veröffentlichung: 4. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01J49/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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