Insulating film material, method for forming film by using the insulating film material, and insulating film
WO2010023964
Art A1
4. März 2010
Anmelder: National Institute for Materials Science, Taiyo Nippon Sanso Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010023964
- Aktenzeichen
- EP09809619
- Anmeldetag
- 1. September 2009
- Veröffentlichung
- 4. März 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/312C23C16/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- National Institute for Materials Science
Taiyo Nippon Sanso Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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