Insulating film material, method for forming film by using the insulating film material, and insulating film

WO2010023964 Art A1 4. März 2010

Anmelder: National Institute for Materials Science, Taiyo Nippon Sanso Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010023964
Aktenzeichen: EP09809619
Anmeldetag: 1. September 2009
Veröffentlichung: 4. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312C23C16/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National Institute for Materials Science
Taiyo Nippon Sanso Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

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🇯🇵 Taiyo Nippon Sanso

Taiyo Nippon Sanso ist ein japanischer Hersteller von Industriegasen und zugehörigen Anlagen, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Der Patentbestand konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Wärme-, Fertigungs- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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