Degasification method for polymer film substrate and degasification apparatus
WO2010024018
Art A1
4. März 2010
Anmelder: Fuji Electric Holdings Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010024018
- Aktenzeichen
- EP09809673
- Anmeldetag
- 12. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 4. März 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/02C08J7/00H01L31/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fuji Electric Holdings Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Electric
Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.
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