Sputtering target and oxide semiconductor thin film formed therefrom

WO2010024034 Art A1 4. März 2010

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010024034
Aktenzeichen: EP09809689
Anmeldetag: 25. Juni 2009
Veröffentlichung: 4. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/363C04B35/00C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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