Semiconductor inspection device and inspection method

WO2010024324 Art A1 4. März 2010

Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K., Osaka University, Riken 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010024324
Aktenzeichen: EP09809974
Anmeldetag: 27. August 2009
Veröffentlichung: 4. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01R31/302H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hamamatsu Photonics K.K.
Osaka University
Riken
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

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🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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🇯🇵 RIKEN

Japanische staatliche Forschungseinrichtung mit Sitz in Wako bei Tokio, aktiv in Physik, Chemie, Biologie und Ingenieurwissenschaften mit zahlreichen Forschungszentren.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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