Plasma processing apparatus, plasma processing method, method for cleaning plasma processing apparatus and pressure control valve for plasma processing apparatus

WO2010024334 Art A1 4. März 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010024334
Aktenzeichen: EP09809984
Anmeldetag: 27. August 2009
Veröffentlichung: 4. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23C16/44H01L21/205H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von