Method of patterning a substrate using dual tone development

WO2010025198 Art A1 4. März 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC), Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010025198
Aktenzeichen: EP09810546
Anmeldetag: 26. August 2009
Veröffentlichung: 4. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03C5/00G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC)
Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.254 Patente in unserer Datenbank

🇧🇪 Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D

Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D ist die Technologietransfereinrichtung der belgischen Universität Leuven. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik, Pharma-/Biotechnologie und organische Chemie, ergänzt durch Mess- und Halbleitertechnik. Die Anmeldungen von 2004 bis 2021 betreffen unter anderem Diagnostik und Biomarker für die Tumortherapie.

299 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von