Liquid for protecting copper wiring surface and method for manufacturing semiconductor circuit element
WO2010026981
Art A1
11. März 2010
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010026981
- Aktenzeichen
- EP09811506
- Anmeldetag
- 2. September 2009
- Veröffentlichung
- 11. März 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/3205H01L23/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
2.580 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.