Liquid for protecting copper wiring surface and method for manufacturing semiconductor circuit element

WO2010026981 Art A1 11. März 2010

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2010026981
Aktenzeichen
EP09811506
Anmeldetag
2. September 2009
Veröffentlichung
11. März 2010
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304H01L21/3205H01L23/52
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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