Compound for filling small gaps in semiconductor device, composition comprising the compound and process for fabricating semiconductor capacitor

WO2010027128 Art A1 11. März 2010

Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010027128
Aktenzeichen: EP08876885
Anmeldetag: 31. Dezember 2008
Veröffentlichung: 11. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CHEIL INDUSTRIES INC.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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