Variable-Ratio Double-Deflection Beam Blanker
WO2010027368
Art A1
11. März 2010
Anmelder: Multibeam Systems, Inc., Tokyo Electron Limited 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010027368
- Aktenzeichen
- EP08821668
- Anmeldetag
- 8. September 2008
- Veröffentlichung
- 11. März 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G21K5/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Multibeam Systems, Inc.
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇺🇸 USA
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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