Post etch reactive plasma milling to smooth through substrate via sidewalls and other deeply etched features

WO2010027400 Art A2 11. März 2010

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010027400
Aktenzeichen: EP09811796
Anmeldetag: 11. August 2009
Veröffentlichung: 11. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065B81B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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