Method and device for plasma processing

WO2010029718 Art A1 18. März 2010

Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010029718
Aktenzeichen: EP09812867
Anmeldetag: 7. September 2009
Veröffentlichung: 18. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: B01J19/08B01D53/22H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sekisui Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sekisui Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.

2.973 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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