Ion irradiation device

WO2010029929 Art A1 18. März 2010

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010029929
Aktenzeichen: EP09813075
Anmeldetag: 9. September 2009
Veröffentlichung: 18. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/20H01J27/02H01J37/08H01J37/305H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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