Photoacid generator material, photolithography material, and pattern film manufacturing method using same
WO2010029948
Art A1
18. März 2010
Anmelder: National University Corporation Chiba University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010029948
- Aktenzeichen
- EP09813094
- Anmeldetag
- 9. September 2009
- Veröffentlichung
- 18. März 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K3/00G03F7/004C07C309/73
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National University Corporation Chiba University
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National University Corporation Chiba University
National University Corporation Chiba University ist die staatliche Trägerorganisation der japanischen Chiba-Universität mit Sitz in der Präfektur Chiba. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik sowie Pharma und Biotechnologie, ergänzt um Mess- und Prüftechnik und organische Chemie. Anmeldungen erfolgen seit 2005 bis in die Gegenwart.
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