Illumination optical system, photolithography apparatus and method for manufacturing device

WO2010032585 Art A1 25. März 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010032585
Aktenzeichen: EP09814430
Anmeldetag: 21. August 2009
Veröffentlichung: 25. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G02B5/00G02B19/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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