Copper wiring surface protective liquid and method for manufacturing semiconductor circuit
WO2010032616
Art A1
25. März 2010
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010032616
- Aktenzeichen
- EP09814461
- Anmeldetag
- 2. September 2009
- Veröffentlichung
- 25. März 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/3205H01L23/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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