Nickel-containing film formation material, and nickel-containing film fabrication method

WO2010032673 Art A1 25. März 2010

Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010032673
Aktenzeichen: EP09814518
Anmeldetag: 10. September 2009
Veröffentlichung: 25. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18H01L21/28H01L21/285C07F9/52C07F15/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHOWA DENKO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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