Method for reducing temperature of substrate placing table, computer-readable storage medium, and substrate processing system
WO2010032708
Art A1
25. März 2010
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010032708
- Aktenzeichen
- EP09814553
- Anmeldetag
- 14. September 2009
- Veröffentlichung
- 25. März 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/683C23C16/44H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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