Resist pattern coating agent and resist pattern formation method

WO2010032839 Art A1 25. März 2010

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010032839
Aktenzeichen: EP09814683
Anmeldetag: 18. September 2009
Veröffentlichung: 25. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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