Pattern inspection device and method

WO2010032857 Art A1 25. März 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010032857
Aktenzeichen: EP09814701
Anmeldetag: 14. September 2009
Veröffentlichung: 25. März 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N23/225H01J37/147H01J37/21H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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